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1000L制冷加熱控溫系統 反應器控溫一體機

簡要描述:【無錫冠亞】1000L制冷加熱控溫系統 反應器控溫一體機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-235
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-16
  • 訪  問  量:1287
詳情介紹
品牌冠亞制冷價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/





  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  1

  

     加熱冷卻溫控設備在低溫真空精餾提純中,能夠實現高溫和低溫操作,在低溫真空精餾提純中,加熱冷卻溫控設備可以提供準確的溫度控制和穩定的操作環境,從而確保精餾過程的順利進行。

  一、什么是低溫真空精餾提純?

  低溫真空精餾提純是一種利用低溫、真空條件下物質沸點降低的原理,通過精餾技術分離和提純物質的方法。該方法廣泛應用于化學、制藥、食品等領域。在低溫真空精餾提純中,溫度控制是因素之一,直接影響著精餾效率和產品質量。

  二、加熱冷卻溫控設備在低溫真空精餾提純中的應用

  1、溫度控制:冠亞制冷加熱冷卻溫控設備能夠提供準確的溫度控制,保證精餾過程中溫度的穩定。在低溫真空精餾提純中,溫度的波動會影響物質的沸點、蒸氣壓等參數,進而影響分離效果。加熱冷卻溫控設備可以根據實際需求設定溫度范圍,并通過自動控制系統實時調整溫度,確保精餾過程的穩定性和連續性。

  2、操作環境:加熱冷卻溫控設備可以提供穩定的操作環境,包括溫度和壓力兩個方面。在低溫真空精餾提純中,需要在一定的溫度和壓力條件下進行操作。加熱冷卻溫控設備可以根據實際需求調整溫度和壓力,并保持其穩定,從而為精餾過程提供適合的操作環境。



1000L制冷加熱控溫系統 反應器控溫一體機

1000L制冷加熱控溫系統 反應器控溫一體機

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