半導(dǎo)體用工業(yè)冷水機(jī)chiller對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備使用的循環(huán)液的溫度、流量和壓力進(jìn)行準(zhǔn)確控制，以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體工藝制程的控溫需求，是集成電路制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，溫控精度和溫控范圍要求高，應(yīng)用在刻蝕、薄膜沉積、涂膠顯影、離子注入、CMP等設(shè)備。

　　半導(dǎo)體制造工藝主要分為兩大類：前道工藝（晶圓制造）和后道工藝（封裝與測(cè)試）。前道工藝涉及硅片加工、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、清洗、拋光、金屬化等環(huán)節(jié)，對(duì)應(yīng)的核心設(shè)備包括硅片加工設(shè)備、光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、離子注入設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、機(jī)械拋光設(shè)備、量測(cè)設(shè)備等。后道工藝涉及封裝設(shè)備和測(cè)試設(shè)備。冠亞恒溫半導(dǎo)體溫用工業(yè)冷水機(jī)chiller半導(dǎo)體制造工藝過程中的高精度溫度控制，擁有超過14年的溫度控制經(jīng)驗(yàn)和與各行業(yè)配套的經(jīng)驗(yàn)，冠亞恒溫為客戶提供標(biāo)準(zhǔn)化和定制化的溫度控制產(chǎn)品，結(jié)合專業(yè)技術(shù)知識(shí)，確保滿足半導(dǎo)體工藝中的苛刻溫度要求。

作為半導(dǎo)體溫控設(shè)備供應(yīng)商，冠亞恒溫?fù)碛卸嗄甑臏囟瓤刂平?jīng)驗(yàn)以及設(shè)備機(jī)臺(tái)配套經(jīng)驗(yàn)，掌握了制冷加熱動(dòng)態(tài)控制技術(shù)以及準(zhǔn)確控溫技術(shù)等半導(dǎo)體溫控設(shè)備核心技術(shù)，具備單通道、多通道半導(dǎo)體溫控設(shè)備批量生產(chǎn)能力；可實(shí)現(xiàn)從晶圓制造、涂膠顯影、刻蝕、清洗、薄膜沉積到實(shí)驗(yàn)室測(cè)試研發(fā)等各個(gè)環(huán)節(jié)中的準(zhǔn)確溫控。冠亞恒溫目前已與半導(dǎo)體多領(lǐng)域行業(yè)大企業(yè)達(dá)成合作，可為客戶提供標(biāo)準(zhǔn)品及用戶定制品，自2010年創(chuàng)辦以來不斷創(chuàng)新，注重研發(fā)和質(zhì)量把控，生產(chǎn)的工業(yè)冷水機(jī)chiller系列產(chǎn)品具有設(shè)置方便、快速響應(yīng)而準(zhǔn)確控溫等特點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)了低能耗、高穩(wěn)定性的冷卻效果，賦能半導(dǎo)體晶圓制造。